作为芯片生产制造环节当中的重要材料，光刻胶可以说是其核心之一。其能够起到“将设计的图像，自模板转移到晶圆表面合适位置”的作用。基于此点，光刻胶材料的好坏，对于芯片产品的精密度、性能等都将产生重要的影响。
然而虽然我国也有着一些光刻胶生产企业，但其产能却是主要集中在一些低端的光刻胶品种，像ArF这类的高端光刻胶原材料，我国此前可以说是100%依赖于进口。
众所周知的是，今年以来，美国对于半导体领域的出口限制不断缩紧，其中就涵盖了光刻胶的出口。在这种情况下，我国的高端光刻胶想要继续依赖于进口，无疑是不太现实的事了。
意识到了自身在高端半导体材料方面的不足后，我国也是开始了发力。不仅中科院宣布将光刻胶等半导体生产的重要材料列入科研清单中，将集中力量对此进行重点研发。且我国的晶瑞股份、上海新阳、南大光电等科技企业，也是在积极地对此进行专研，力求早日实现高端光刻胶材料的自产。
功夫不负有心人。近日，我国在高端光刻胶领域终于迎来了重大突破。根据11月13日的最新报道显示，我国的南大光电材料有限公司宣布，其首条ArF光刻胶生产线，目前已经进入了正式地投产当中。在该项目全面达产之后，预计其年销售额将达到10亿元。
据悉，目前南大光电已经将这次的ArF光刻胶的样品，送到了其一些客户的手上进行测试。可以预见的是，随着我国首条高端光刻机生产线的建成，南大光电今后也将收到更多的相关订单。
此外，对于我国的芯片企业而言，这无疑算得上是一大利好消息。以中芯国际为例，由于缺乏光端光刻胶、来自ASML的EUV光刻机迟迟不到货等因素的影响，其在芯片领域内的发展受到了很大的限制。
而随着我国自身在高端光刻胶方面实现了突破，眼下自产就快要实现了。这对于中芯国际而言，无疑是解决了芯片发展的一大难题。由于ArF光刻胶对28nm-7nm工艺的芯片有着关键作用，可以说南大光电此次的突破，为我国的芯片企业研发制造高精密度的芯片提供了一层保障。
说到这里，有很多朋友会好奇，随着我国此次光刻胶材料的突破，我国的光刻胶是否能够在国际市场当中占据更多的份额呢?
根据相关数据显示，在2019年当中，我国光刻胶本土企业的销售总额为70亿元，占据了全球市场10%的份额，这样一看似乎是一个不错的成绩了。
但仔细分析后就会发现，在高端光刻胶的市场当中，有95%的份额都集中站我在美国和日本的企业手上。值得一提的是，日本的信越化学、东京日化等企业称得上是行业巨头，其几乎垄断了90%的高端光刻胶市场。
而伴随着我国高端光刻胶的突破，相信肯定会对这些美企和日企在光刻胶市场的垄断地位，造成一定程度的冲击。
此外，除了南大光电以外，我国别的科技企业在这方面也是处于持续发力之中。根据9月下旬的报道显示，晶瑞股份耗费了7523万元的巨资，从韩国的半导体生产商SK海力士手上，购进了一台ASML的二手光刻机设备，将把其用于高端光刻胶材料的生产之中。
相信在未来，我国还将有更多的企业实现高端光刻胶材料的市场，为我国芯片发展提供保障的同时，也使得国产高端光刻胶走上国际市场的舞台。
